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產(chǎn)品中心

Product Center
  • 阿瑞斯-µVOC半導(dǎo)體潔凈室氣體分析監(jiān)測系統(tǒng)

    半導(dǎo)體潔凈室氣體分析監(jiān)測系統(tǒng)通過污染物源頭控制、傳播控制,實時監(jiān)控污染物濃度并結(jié)合多級過濾器以及新風(fēng)系統(tǒng)來實現(xiàn),持久監(jiān)測AMC濃度,有助于掌握污染物源頭、穩(wěn)定生產(chǎn)、預(yù)防過濾器突發(fā)性壽命減少等。

    更新時間:2024-08-28
    產(chǎn)品型號:阿瑞斯-µVOC
    瀏覽量:2424
  • EDK 6900PTDL激光微量便攜氣體分析儀

    EDK 6900P系列TDL激光微量便攜氣體分析儀高靈敏度和寬的動態(tài)量程,是可調(diào)諧半導(dǎo)體激光器光譜(TDLS)技術(shù)的基本特性,可用于測量sub-ppm到%范圍的氣體。

    更新時間:2024-08-29
    產(chǎn)品型號:EDK 6900P
    瀏覽量:383
  • EDK 6900STDL激光微量在線氣體分析儀

    TDL激光微量在線氣體分析儀基于非色散紫外吸收光譜NDUV技術(shù)來對氫氣中Cl2進行分析。NDUV非色散紫外吸收光譜技術(shù)是確定復(fù)雜氣體混合物中濃度的一種普遍方法。

    更新時間:2024-08-29
    產(chǎn)品型號:EDK 6900S
    瀏覽量:330
  • 獵戶座 3100S空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)

    空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)快速監(jiān)測、報警、極低濃度測量、寬測量區(qū)域、多氣體的高靈敏響應(yīng)等是半導(dǎo)體工業(yè)要求之一。深紫外光刻工藝特別關(guān)注氨、胺類、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類等濃度測量,當(dāng)這些氣體與化學(xué)放大光刻膠反生反應(yīng) 時,將深深的影響半導(dǎo)體器件質(zhì)量。

    更新時間:2024-08-29
    產(chǎn)品型號:獵戶座 3100S
    瀏覽量:838
  • 阿瑞斯-μVOCAMC監(jiān)測空氣分子污染物系統(tǒng)

    潔凈室環(huán)境中的空氣分子污染物AMC,內(nèi)部來自建筑材料釋出、設(shè)備和材料釋出、腐蝕和光刻等工藝過程中化學(xué)藥品逸散、人員產(chǎn)生、管路泄露、設(shè)備維護修理時散發(fā)等,外部來自環(huán)境空氣中存在的氣相污染物,以及潔凈室的廢氣排放重新送回潔凈室。

    更新時間:2024-08-29
    產(chǎn)品型號:阿瑞斯-μVOC
    瀏覽量:479
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